金融界2023年12月1日消息,据国家知识产权局公告,深圳市三利谱光电科技股份有限公司取得一项名为“可翻转的残胶清洁装置”,授权公告号CN220111874U,申请日期为2023年3月。
专利摘要显示,本实用新型涉及偏光片生产技术领域,具体公开了一种可翻转的残胶清洁装置,该装置包括支架,其中,支架上设有若干滚动件,残胶桶能放置于若干滚动件上,并被若干滚动件承载,所有滚动件的轴线均与残胶桶的轴线平行,且残胶桶能绕自身轴线转动。借助上述设置,盛有乙酸乙酯的残胶桶在转动过程中,可以轻松使得附着在残胶桶侧壁上的残胶与乙酸乙酯充分接触并稀释,能轻松将稀释后的胶水倒出,完成了残胶桶的清理,解决了胶水无法倒干净导致浪费的问题。
来源:金融界